泰斯特真空/气氛管式炉CVD系统系列

→ 产品介绍

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天津泰斯特,提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域。


产品名称

产品型号

市场价

真空气氛管式炉(低端)

TF12D50

20000

TF12D50S

24000

TF12D60

20800

TF12D60S

24800

TF12D80

23000

TF12D80S

26800

TF12D100

24800

TF12D100S

28800

开启式真空气氛管式炉

TF12P50

24800

TF12T50

28800

TF12P50S

28000

TF12T50S

34000

TF12P60

28000

TF12T60

32000

TF12P60S

31200

TF12T60S

35200

TF12P80

31200

TF12T80

35200

TF12P80S

34400

TF12T80S

38400

TF12P100

34400

TF12T100

38400

TF12P100S

37600

TF12T100S

41600

开启式真空气氛管式炉

TF14P40

29000

TF14T40

34000

TF14P50

32000

TF14T50

36000

TF14P60

43000

TF14T60

48000

TF14P80

46000

TF14T80

52000

TF16P50

49500

TF16T50

52000

TF16P60

52000

TF16T60

55600

TF16P60S

80000

TF16T60S

88000

TF16P80

55600

TF16T80

58000

TF16P80S

84000

TF16T80S

90000

TF16P100

58000

TF16T100

60000

TF16P100S

88000

TF16T100S

96000

中真空控制系统

ZKXT-1D

24800

浮子流量控制系统

FZXT-2D

9800

FZXT-3D

10800

FZXT-4D

12800

质量流量控制系统

ZLXT-2D

50000

ZLXT-3D

63000

ZLXT-4D

76000

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